Preview

Fine Chemical Technologies

Advanced search

CALCULATION OF THE WIDTH OF FILMS FORMED BY TWO MUTUALLY INSOLUBLE LIQUIDS IN AN ONCOMING GAS FLOW

Full Text:

Abstract

The flow of two thin films of mutually insoluble liquids was studied taking into account the impact of the oncoming gas flow. A method of calculating the films thickness was developed. Software was built for calculation based on that method.

About the Authors

M. K. Zakharov
M.V. Lomonosov Moscow State University of Fine Chemical Technologies, 86, Vernadskogo pr., Moscow 119571
Russian Federation


K. O. Goncharuk
M.V. Lomonosov Moscow State University of Fine Chemical Technologies, 86, Vernadskogo pr., Moscow 119571
Russian Federation


References

1. Захаров М. К., Айнштейн В. Г., Тишаева Л.М. Расчет высоты пленочных реакторов при ламинарном течении пленки // Теор. основы хим. технологии. 1988. Т. 22. № 2. С. 194.

2. Захаров М.К., Комков А.Ю., Павленко Д.М. Анализ структуры потоков при совместном течении двух пленок взаимно нерастворимых жидкостей по вертикальной поверхности с учетом воздействия газового потока // Вестник МИТХТ. 2008. Т. 3. № 4. С. 70-74.

3. Карагьозов Хр. Ан. Исследование гравитационного течения пленок применительно к химическим реакторам: дис. … канд. техн. наук. М.: МИТХТ, 1981. 167 с.

4. Захаров М. К., Комков А. Ю. Анализ структуры потоков при совместном течении двух пленок неньютоновских жидкостей по вертикальной поверхности с учетом воздействия газового потока // Теор. основы хим. технологии. 2009. Т. 43. № 1. С. 37-46.

5. Айнштейн В.Г., Захаров М.К., Носов Г.А., Захаренко В.В., Зиновкина Т.В., Таран А.Л., Костанян А.Е. Общий курс процессов и аппаратов химической технологии: в 2-х кн. / Под ред. В.Г. Айнштейна. - М.: Университетская книга, Логос, Физматкнига, 2006. Кн. 1. 912 с. Кн. 2. 872 с.


For citation:


Zakharov M.K., Goncharuk K.O. CALCULATION OF THE WIDTH OF FILMS FORMED BY TWO MUTUALLY INSOLUBLE LIQUIDS IN AN ONCOMING GAS FLOW. Fine Chemical Technologies. 2013;8(4):33-37. (In Russ.)

Views: 46


ISSN 2410-6593 (Print)
ISSN 2686-7575 (Online)