chemicallytechFine Chemical TechnologiesТонкие химические технологии2410-65932686-7575MIREA – Russian Technological University (RTU MIREA).chemicallytech-567Research ArticleTHEORETICAL BASIS OF CHEMICAL TECHNOLOGYТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ХИМИЧЕСКОЙ ТЕХНОЛОГИИCALCULATION OF THE WIDTH OF FILMS FORMED BY TWO MUTUALLY INSOLUBLE LIQUIDS IN AN ONCOMING GAS FLOWРАСЧЕТ ТОЛЩИНЫ ПЛЕНОК ДВУХ ВЗАИМНО НЕРАСТВОРИМЫХ ЖИДКОСТЕЙ ПРИ ВСТРЕЧНОМ ГАЗОВОМ ПОТОКЕЗахаровМ. К.ZakharovM. K.

кафедра Процессов и аппаратов химической технологии им. Н.И. Гельперина, профессор

mkzakharov@gmail.comГончарукК. О.GoncharukK. O.

кафедра Процессов и аппаратов химической технологии им. Н.И. Гельперина, студент

noemail@neicon.ruМИТХТ им. М.В. Ломоносова, 119571, Москва, пр-т Вернадского, д. 86РоссияM.V. Lomonosov Moscow State University of Fine Chemical Technologies, 86, Vernadskogo pr., Moscow 119571Russian Federation201328082013843337Copyright © Zakharov M.K., Goncharuk K.O., 20132013Захаров М.К., Гончарук К.О.Zakharov M.K., Goncharuk K.O.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://www.finechem-mirea.ru/jour/article/view/567

The flow of two thin films of mutually insoluble liquids was studied taking into account the impact of the oncoming gas flow. A method of calculating the films thickness was developed. Software was built for calculation based on that method.

Изучено нисходящее течение двух пленок взаимно нерастворимых жидкостей с учетом воз-действия встречного газового потока. Найден способ расчета толщин пленок при известных расходах. На основе предложенного алгоритма расчета разработано программное обеспечение

взаимно нерастворимые жидкоститечение двух тонких пленоктолщина пленкиmutually insoluble liquidsflow of two thin liquid filmsfilm thicknessReferencesЗахаров М. К., Айнштейн В. Г., Тишаева Л.М. Расчет высоты пленочных реакторов при ламинарном течении пленки // Теор. основы хим. технологии. 1988. Т. 22. № 2. С. 194.Захаров М. К., Айнштейн В. Г., Тишаева Л.М. Расчет высоты пленочных реакторов при ламинарном течении пленки // Теор. основы хим. технологии. 1988. Т. 22. № 2. С. 194.Захаров М.К., Комков А.Ю., Павленко Д.М. Анализ структуры потоков при совместном течении двух пленок взаимно нерастворимых жидкостей по вертикальной поверхности с учетом воздействия газового потока // Вестник МИТХТ. 2008. Т. 3. № 4. С. 70-74.Захаров М.К., Комков А.Ю., Павленко Д.М. Анализ структуры потоков при совместном течении двух пленок взаимно нерастворимых жидкостей по вертикальной поверхности с учетом воздействия газового потока // Вестник МИТХТ. 2008. Т. 3. № 4. С. 70-74.Карагьозов Хр. Ан. Исследование гравитационного течения пленок применительно к химическим реакторам: дис. … канд. техн. наук. М.: МИТХТ, 1981. 167 с.Карагьозов Хр. Ан. Исследование гравитационного течения пленок применительно к химическим реакторам: дис. … канд. техн. наук. М.: МИТХТ, 1981. 167 с.Захаров М. К., Комков А. Ю. Анализ структуры потоков при совместном течении двух пленок неньютоновских жидкостей по вертикальной поверхности с учетом воздействия газового потока // Теор. основы хим. технологии. 2009. Т. 43. № 1. С. 37-46.Захаров М. К., Комков А. Ю. Анализ структуры потоков при совместном течении двух пленок неньютоновских жидкостей по вертикальной поверхности с учетом воздействия газового потока // Теор. основы хим. технологии. 2009. Т. 43. № 1. С. 37-46.Айнштейн В.Г., Захаров М.К., Носов Г.А., Захаренко В.В., Зиновкина Т.В., Таран А.Л., Костанян А.Е. Общий курс процессов и аппаратов химической технологии: в 2-х кн. / Под ред. В.Г. Айнштейна. - М.: Университетская книга, Логос, Физматкнига, 2006. Кн. 1. 912 с. Кн. 2. 872 с.Айнштейн В.Г., Захаров М.К., Носов Г.А., Захаренко В.В., Зиновкина Т.В., Таран А.Л., Костанян А.Е. Общий курс процессов и аппаратов химической технологии: в 2-х кн. / Под ред. В.Г. Айнштейна. - М.: Университетская книга, Логос, Физматкнига, 2006. Кн. 1. 912 с. Кн. 2. 872 с.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.