База данных по свойствам и технологическим характеристикам полупроводниковых материалов.
Аннотация
Об авторах
Т. В. СтольниковаRussian Federation
кафедра Информационных технологий, магистр
К. Ю. Колыбанов
Russian Federation
кафедра Информационных технологий, доцент
В. В. Арбенина
Russian Federation
кафедра Материалов микро-,опто- и наноэлектроники, доцент
Список литературы
1. Киселёва, Н. Н. Компьютерное конструирование неорганических соединений: использование баз данных и методов искусственного интеллекта / Н. Н. Киселёва. – М. : Наука, 2005. – 286 с.
2. Кузнецов, С. Д. Основы современных баз данных / С. Д. Кузнецов // Информационноаналитические материалы Центра Информационных Технологий.
3. Connolly, Thomas M. Database systems. A practical approach to design, Implementation, and management / Thomas M. Connolly, Carolyn E. Begg. – М. : ИД «Вильямс», 2003. – 1440 c.
4. Дейт, К. Дж. Введение в системы баз данных / К. Дж. Дейт. – М. : ИД «Вильямс», 2002. – 1072 с.
5. В.В. Кириллов. Основы проектирования реляционных баз данных. – Режим доступа: http://www.citforum.ru/database/dbguide/index.shtml
6. http://www.hist.msu.ru/Labs/HisLab/BOOKS/p4_Access.pdf
7. Дженнингс, Роджер. Использование Microsoft Access 2002 / Роджер Дженнингс. – М. : ИД «Вильямс», 2002. – 1007 с.
8. Физико-химические свойства полупроводниковых веществ / Под ред. Л. Н. Новоселовой, В. Б. Лазарева. – М. : Наука, 1979. – 338 с.
9. Лебедев, С. С. Соединения А3В5 / С. С. Лебедев, В. В. Стрельченко. – М. : Металлургия, 1991. – 350 с.
10. Хансен, М. Структуры двойных сплавов / М. Хансен, К. Андерко. – М. : Металлургиздат, 1962. – Т. I. – 608 с., Т. II. – 1488 с.
11. http://www.BD.com
12. http://www.nsc.ru/win/docs/db/rdbms/5-1.html
Рецензия
Для цитирования:
Стольникова Т.В., Колыбанов К.Ю., Арбенина В.В. База данных по свойствам и технологическим характеристикам полупроводниковых материалов. Тонкие химические технологии. 2008;3(4):94-100.
For citation:
Stol'nikova T.V., Kolybanov K.Yu., Arbenina V.V. Database on properties and technical characteristics of semiconductor materials. Fine Chemical Technologies. 2008;3(4):94-100. (In Russ.)
JATS XML





















