Preview

Тонкие химические технологии

Расширенный поиск
Полноэкранный режим

Для цитирования:


Мармалюк А.А., Арбенин Д.Е., Бурляева Е.В. Алгоритмические программы подбора оптимальных условий роста при выращивании эпитаксиальных слоев на основе GaAs методом МОС-гидридной эпитаксии. Тонкие химические технологии. 2009;4(2):61-66.

For citation:


Marmalyuk A.A., Arbenin D.E., Burlyaeva E.V. The algorithmic programs for optimal growth conditions selection in growing of GaAs-based epitaxial layers by MOCVD. Fine Chemical Technologies. 2009;4(2):61-66. (In Russ.)

Просмотров PDF (Rus): 327


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 International License.


ISSN 2410-6593 (Print)
ISSN 2686-7575 (Online)