Preview

Fine Chemical Technologies

Advanced search

Flow pattern analyzes of a two thin films of insoluble in each other liquids flow on a vertical surface subject to influence of a gas stream.

Full Text:

Abstract

A downward flow of a two thin films of insoluble in each other liquids subject to influence of a gas counterflow is studied. A velocity profiles in both thin films, an average velocities and a discharges has been found. Dependences for evaluating optimal influence of the gas stream on working film were found.

About the Authors

M. K. Zakharov
МИТХТ им. М.В. Ломоносова, 119571, Москва, пр-т Вернадского, д. 86
Russian Federation


A. U. Komkov
МИТХТ им. М.В. Ломоносова, 119571, Москва, пр-т Вернадского, д. 86
Russian Federation


D. M. Pavlenko
МИТХТ им. М.В. Ломоносова, 119571, Москва, пр-т Вернадского, д. 86
Russian Federation


References

1. Захаров, М. К. Расчет высоты пленочных реакторов при ламинарном течении пленки / М. К. Захаров, В. Г. Айнштейн, Л. М. Тишаева // Теор. основы хим. технологии. – 1988. – Т. 22, № 2. – С. 194.

2. Захаров, М. К. Расчет пленочных реакторов при ламинарном течении пленки с проскальзыванием на стенке / М. К. Захаров, В. Г. Айнштейн // Теор. основы хим. технологии. – 1992. – Т. 25, № 5. – С. 640.

3. Общий курс процессов и аппаратов химической технологии / Под ред. В.Г. Айнштейна. – М. : Логос, 2002. – 1760 с.

4. Карагьозов, Х. А. Исследование гравитационного течения жидких пленок применительно к химическим реакторам : автореф. дис. . . канд. техн. наук. : 05.17.08 / Карагьозов Христо Анастасов. – М., 1981. – 20 с.

5. Захаров, М. К. Процессы переноса в аппаратах пленочного типа : дис. . . докт. техн. наук : 05.17.06 : защищена 29.03.94 / Захаров Михаил Константинович. – М., 1994. – 348 с.


For citation:


Zakharov M.K., Komkov A.U., Pavlenko D.M. Flow pattern analyzes of a two thin films of insoluble in each other liquids flow on a vertical surface subject to influence of a gas stream. Fine Chemical Technologies. 2008;3(4):70-74. (In Russ.)

Views: 54


ISSN 2410-6593 (Print)
ISSN 2686-7575 (Online)