Flow pattern analyzes of a two thin films of insoluble in each other liquids flow on a vertical surface subject to influence of a gas stream.
Abstract
About the Authors
M. K. ZakharovRussian Federation
A. U. Komkov
Russian Federation
D. M. Pavlenko
Russian Federation
References
1. Захаров, М. К. Расчет высоты пленочных реакторов при ламинарном течении пленки / М. К. Захаров, В. Г. Айнштейн, Л. М. Тишаева // Теор. основы хим. технологии. – 1988. – Т. 22, № 2. – С. 194.
2. Захаров, М. К. Расчет пленочных реакторов при ламинарном течении пленки с проскальзыванием на стенке / М. К. Захаров, В. Г. Айнштейн // Теор. основы хим. технологии. – 1992. – Т. 25, № 5. – С. 640.
3. Общий курс процессов и аппаратов химической технологии / Под ред. В.Г. Айнштейна. – М. : Логос, 2002. – 1760 с.
4. Карагьозов, Х. А. Исследование гравитационного течения жидких пленок применительно к химическим реакторам : автореф. дис. . . канд. техн. наук. : 05.17.08 / Карагьозов Христо Анастасов. – М., 1981. – 20 с.
5. Захаров, М. К. Процессы переноса в аппаратах пленочного типа : дис. . . докт. техн. наук : 05.17.06 : защищена 29.03.94 / Захаров Михаил Константинович. – М., 1994. – 348 с.
Review
For citations:
Zakharov M.K., Komkov A.U., Pavlenko D.M. Flow pattern analyzes of a two thin films of insoluble in each other liquids flow on a vertical surface subject to influence of a gas stream. Fine Chemical Technologies. 2008;3(4):70-74. (In Russ.)