chemicallytechFine Chemical TechnologiesТонкие химические технологии2410-65932686-7575MIREA – Russian Technological University (RTU MIREA).chemicallytech-1517Research ArticleTHEORETICAL BASIS OF CHEMICAL TECHNOLOGYТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ХИМИЧЕСКОЙ ТЕХНОЛОГИИFlow pattern analyzes of a two thin films of insoluble in each other liquids flow on a vertical surface subject to influence of a gas stream.Анализ структуры потоков при совместном течении двух пленок взаимнонерастворимых жидкостей по вертикальной поверхности с учетом воздействия газового потока.ЗахаровМ. К.ZakharovM. K.

кафедра Процессов и аппаратов химической технологии им. Н.И. Гельперина, профессор

noemail@neicon.ruКомковА. Ю.KomkovA. U.

кафедра Процессов и аппаратов химической технологии им. Н.И. Гельперина, аспирант

noemail@neicon.ruПавленкоД. М.PavlenkoD. M.

кафедра Процессов и аппаратов химической технологии им. Н.И. Гельперина, студент

noemail@neicon.ruМИТХТ им. М.В. Ломоносова, 119571, Москва, пр-т Вернадского, д. 86Russian Federation200828082008347074Copyright © Zakharov M.K., Komkov A.U., Pavlenko D.M., 20082008Захаров М.К., Комков А.Ю., Павленко Д.М.Zakharov M.K., Komkov A.U., Pavlenko D.M.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://www.finechem-mirea.ru/jour/article/view/1517

A downward flow of a two thin films of insoluble in each other liquids subject to influence of a gas counterflow is studied. A velocity profiles in both thin films, an average velocities and a discharges has been found. Dependences for evaluating optimal influence of the gas stream on working film were found.

Изучено нисходящее течение двух пленок взаимнонерастворимых жидкостей с учетом воздействия встречного газового потока. Найдены профили скоростей в обеих пленках, средние скорости и расходы. Получены зависимости для расчета оптимального воздействия газового потока на рабочую пленку.

взаимнонерастворимые жидкоститечение двух тонких пленокоптимизацияскорость профиля.ReferencesЗахаров, М. К. Расчет высоты пленочных реакторов при ламинарном течении пленки / М. К. Захаров, В. Г. Айнштейн, Л. М. Тишаева // Теор. основы хим. технологии. – 1988. – Т. 22, № 2. – С. 194.Захаров, М. К. Расчет высоты пленочных реакторов при ламинарном течении пленки / М. К. Захаров, В. Г. Айнштейн, Л. М. Тишаева // Теор. основы хим. технологии. – 1988. – Т. 22, № 2. – С. 194.Захаров, М. К. Расчет пленочных реакторов при ламинарном течении пленки с проскальзыванием на стенке / М. К. Захаров, В. Г. Айнштейн // Теор. основы хим. технологии. – 1992. – Т. 25, № 5. – С. 640.Захаров, М. К. Расчет пленочных реакторов при ламинарном течении пленки с проскальзыванием на стенке / М. К. Захаров, В. Г. Айнштейн // Теор. основы хим. технологии. – 1992. – Т. 25, № 5. – С. 640.Общий курс процессов и аппаратов химической технологии / Под ред. В.Г. Айнштейна. – М. : Логос, 2002. – 1760 с.Общий курс процессов и аппаратов химической технологии / Под ред. В.Г. Айнштейна. – М. : Логос, 2002. – 1760 с.Карагьозов, Х. А. Исследование гравитационного течения жидких пленок применительно к химическим реакторам : автореф. дис. . . канд. техн. наук. : 05.17.08 / Карагьозов Христо Анастасов. – М., 1981. – 20 с.Карагьозов, Х. А. Исследование гравитационного течения жидких пленок применительно к химическим реакторам : автореф. дис. . . канд. техн. наук. : 05.17.08 / Карагьозов Христо Анастасов. – М., 1981. – 20 с.Захаров, М. К. Процессы переноса в аппаратах пленочного типа : дис. . . докт. техн. наук : 05.17.06 : защищена 29.03.94 / Захаров Михаил Константинович. – М., 1994. – 348 с.Захаров, М. К. Процессы переноса в аппаратах пленочного типа : дис. . . докт. техн. наук : 05.17.06 : защищена 29.03.94 / Захаров Михаил Константинович. – М., 1994. – 348 с.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.